Influência da Pressão de Vapor na Temperatura Eletrônica de um Plasma de Benzeno, na Estrutura Molecular, Morfologia e na Taxa de Deposição do Polímero Formado

Autores

  • Ricardo Del Sant

DOI:

https://doi.org/10.17921/1890-1793.2015v10n10p%25p

Resumo

Vapor de benzeno foi introduzido em um reator de plasma, sendo excitado por tensão contínua de 1000 V durante 60 minutos, sob pressão de 0,2 a 0,8 mbar, até ser convertido em polímero depositado em substrato de vidro ou silício, através do processo de polimerização a plasma sob regime de descarga DC. A análise dos materiais coletados permitiu estabelecer, em função da pressão do vapor de benzeno, uma estimativa de sua estrutura molecular, destacando-se a presença de radicais OH, CH3 e CH2, bem como da densidade de ligações CH. Até 0,4 mbar a expressão da morfologia revelou a forma de filme fino contínuo, taxa de deposição polimérica crescente até 160 A/min e aumento da temperatura eletrônica de 2,5 até 4,5 eV. Entre 0,4 e 0,8 mbar a morfologia foi de filme contínuo misturado com pó polimérico, taxa de deposição decrescente até 40 A/min, enquanto a temperatura eletrônica diminuiu até 2,5 eV.

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Publicado

2015-12-21

Edição

v. 10 n. 10 (2015)

Seção

Artigos

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